KFE передает «технологию измерения ВЧ-мощности для оборудований полупроводниковой и дисплейной промышленности» местной компании ASENDIA

Корреспондент Гу Бон Хёк

- Технология обеспечивает высокоточные измерения даже в сложных технологических условиях

- Укрепление конкурентоспособности полупроводниковой и дисплейной промышленности

О Ён Гук (справа), глава Корейского института термоядерной энергии, и Пак Мун Су, генеральный директор компании ASENDIA, позируют для памятной фотографии после подписания договора о передаче технологии высокоточного измерения высокочастотной мощности [Фото предоставлено Корейским институтом термоядерной энергии]

1 июля Корейский институт термоядерной энергии объявил о заключении с компанией ASENDIA договора о внедрении технологии высокоточного измерения ВЧ-мощности (высокочастотной мощности), применяемой в плазменном оборудовании для производства полупроводников и дисплеев.

В связи с недавней миниатюризацией и усовершенствованием технологических процессов производства полупроводников и дисплеев растет важность технологий, позволяющих с высокой точностью диагностировать состояние плазменного оборудования.

Существующие датчики, используемые в настоящее время на производственных линиях, определяют состояние мощности на основе напряжения и тока, что ограничивает возможность точного измерения фактической передаваемой мощности в сложных условиях плазменных процессов. Разработанный Корейским мнститутом термоядерной энергии датчик DiCoVI (Directional Coupled VI sensor или вольтамперметр с направленный ответвлением) отличается тем, что к традиционной схеме датчика добавлена технология направленного ответвления, что повышает точность измерений.

Датчик DiCoVI позволяет более точно контролировать состояние передачи высокочастотной мощности во время работы оборудования, благодаря чему его можно использовать для мониторинга состояния оборудования и диагностики технологических процессов.

Функция датчика DiCoVi и технологический конвейер по измерению высокочастотной мощности

Ограничения в мониторинге плазменных процессов в режиме реального времени.

(слева вверху) Существующие проблемы — отсутствие способа управления оборудованием и технологическим процессом с одновременным мониторингом ключевых этапов в режиме реального времени; приходится полагаться на опыт и метод проб и ошибок.

Требования инженеров-техников, отвечающих за серийное производство: необходимость отслеживания разнообразной информации через ограниченное смотровое окно; необходимость мониторинга внутреннего состояния оборудования без вмешательства в технологический процесс; простота установки снаружи без модификации существующего оборудования.

(слева внизу, по часовой стрелке) состояние камеры, мониторинг в режиме реального времени, результаты процесса, параметры плазмы, обнаружение неисправностей

(справа вверху) Используемые в настоящее время технологии. Технологии, позволяющие осуществлять мониторинг в режиме реального времени: VI, OES, RGA; технологии измерения параметров плазмы: Cutoff Probe, RFEA. Обнаружение аномалий (OES), состояние камеры (отсутствует), плазма (только частично), результаты/ход процесса (отсутствует)

* VI Probe (Matcher): мониторинг высокочастотной мощности, мониторинг сигналов тока и напряжения

* Cutoff Probe: измерение температуры и плотности электронов; может создавать помехи в технологическом процессе; не может использоваться во время технологического процесса

* RFEA: измерение энергии ионов; не может использоваться во время технологического процесса

* OES: мониторинг излучения плазмы в режиме реального времени; используется для определения конечной точки процесса

* RGA/SP-OES: устанавливается на выпускном отверстии для мониторинга состава реакционных газов и побочных продуктов в режиме реального времени, предназначен для проверки степени вакуума и состояния оборудования (используется в сегменте выпускного канала)

Проверка точности измерения высокочастотной мощности датчиком DiCoVI.

(сверху вниз) Технические преимущества датчика DiCoVi (Directional Coupled VI): Точное измерение высокочастотной мощности по сравнению с продукцией конкурентов — измерение активной мощности в условиях, отличных от 50 Ом

(слева внизу) Датчик DiCoVi. Предназначен для согласователя (matcher); измеряет активную мощность в условиях, отличных от 50 Ом; представляет собой гибридную модель, сочетающую аппаратное обеспечение, моделирование и искусственный интеллект; оснащён модулем мониторинга параметров плазмы и технологического процесса в режиме реального времени, включая распределение энергии и угла ионов, толщину слоя (THK) и др.

Разработка данной технологии является результатом накопления и совершенствования знаний, полученных в рамках задания Группы по интегрированным исследованиям в области интеллектуализации плазменного оборудования, который Корейский институт термоядерной энергии осуществлял с 2020 года в рамках программы «Группа по интегрированным исследованиям» Национального исследовательского совета по науке и технологии Кореи, а также в рамках стратегического исследовательского проекта «Разработка полупроводникового оборудования для сверхточных технологических процессов», запущенного в январе этого года.

На этой основе Корейский институт термоядерной энергии планирует расширить применение технологий измерения и диагностики плазмы на сферу оборудования для производства полупроводников и дисплеев, а также оказывать поддержку в диагностике технологических процессов и интеллектуализации оборудования на промышленных предприятиях, что, как ожидается, будет способствовать укреплению технологической конкурентоспособности в сфере полупроводникового оборудования.

Высокочастотные согласователи (RF-matcher) от компании ASENDIA

Компания «ASENDIA» (веб-сайт: https://www.asendia-global.com/en/product/matcher.php) с момента своего основания в 1990 году занимается разработкой и производством ключевых компонентов ВЧ-питания для полупроводниковых плазменных процессов, таких как высокочастотные источники питания, согласователи, фильтры и тюнеры. ASENDIA планирует применить датчики DiCoVI в своих ВЧ-согласователях с целью разработки и коммерциализации ВЧ-согласователей нового поколения, обладающих функциями высокоточного измерения.

«Технологии плазмы, накопленные в процессе разработки технологий термоядерного синтеза, могут широко использоваться в различных передовых отраслях, таких как производство полупроводников и дисплеев» - заявил глава Корейского института термоядерной энергии, добавив: «В дальнейшем мы будем активно расширять техническое сотрудничество с предприятиями, чтобы ключевые технологии, которыми располагает институт, могли найти широкое применение в промышленности».

nbgkoo@heraldcorp.com

#южнаякорея #корея #политика #экономика #промышленность #технология #плазма #полупроводники #технологическийпроцесс #производство #датчики #вольтметр #амперметр #высокочастотнаямощность #электроника #медицина #бизнес #финансы #общество #культура #искусство #азия